Az Intel befejezte 32 nanométeres gyártástechnológiájának kifejlesztését

A vállalat a jövő héten a San Francisco-i International Electron Devices (IEDM) rendezvényen ad részletesebb technikai információt a 32 nanométeres gyártási technológiáról. A 32 nanométeres technológia fejlesztésének lezárása és az a tény, hogy hamarosan gyártásra készen áll, azt jelenti, hogy az Intel továbbra is képes tartani az ún.”tick-tock” stratégiában meghatározott termék és gyártás-technológia kifejlesztési ütemét. A stratégia alapján a vállalat az egyik évben új processzor mikroarchitektúrát mutat be, majd a következő évben egy az egész iparágban is teljesen új gyártási technológiát. A 32 nanométeres chipek jövő évi bemutatkozása azt jelentheti, hogy az Intel már negyedik éve folyamatosan képes megfelelni ennek a célkitűzésének.

A cég 32 nanométeres eljárásnak leírása és prezentáció alapján egy olyan technológiáról van szó, amely magában foglalja a második generációs magas K együtthatós fémkapus technológiát, a 193 nanométeres levilágítókat használ, amelyek fontosak a minták rajzolásához, illetve továbbfejlesztett tranzisztor-nyújtási technológiákat. Ezek a képességek megnövelik az Intel processzorok teljesítményét és energiahatékonyságát. Az iparág eddig bemutatott 32 nanométeres technológiái közül az Intel gyártási eljárása teszi lehetővé a legjobb tranzisztor-teljesítményt és a legmagasabb tranzisztor-sűrűséget.